臭氧发生器在半导体领域有两大应用， 其中臭氧水发生装置主要用于半导体前道工艺环节的湿法清洗， 臭氧气体发生装置可用于CVD和ALD等薄膜沉积环节及部分干法清洗环节。 当前我国半导体臭氧设备市场主要被美国MKS等外企垄断， 由于半导体产业转移及产业安全等要求， 未来高端设备不论是整机自研、 零部件配套等领域实现国产自主可控乃是大势所趋。

　　公司已实现半导体臭氧设备核心技术突破， 生产的臭氧水机产生的臭氧水浓度可达80-150PPm， 臭氧气体发生器产生的臭氧气体浓度可达200-300mg/L， 均已取得相关专利， 产品性能可对标海外龙头。 目前产品正在客户端验证， 验证结束后可立即投产量产， 将有望加速半导体产业链的国产替代。

　　目前国内高品质乙醛酸产品基本依赖进口， 国林科技专有乙醛酸制备方法“ 臭氧氧化顺酐法” ， 产品品质高、可产生副产品甲酸钾且转化效率基本达到100%。

　　水务处理、 废水治理、 烟气脱硝领域等下游需求轮动， 保障公司在传统领域的稳定发展； 新兴领域拓展顺利，公司半导体臭氧清洗设备突破关键核心技术， 有望实现设备国产替代， 新疆高品质乙醛酸项目产能有序爬坡中，将带来显著业绩增长。 预计2023-2025年的归母净利润分别为0.26、 0.91、 1.55亿元， EPS分别为0.14、 0.50、0.84元， 当前股价对应PE分别为126、 37、 22倍。 首次覆盖， 给与“ 买入” 评级